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AI點燃半導體設備市場 平臺型與專精特新雙線突圍

2026-04-14 07:47 來源:中國證券報
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AI點燃半導體設備市場 平臺型與專精特新雙線突圍

2026年04月14日 07:47 來源:中國證券報
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● 本報記者 吳科任

近日,多家半導體設備上市公司交出2025年成績單:收入紛紛上揚,部分公司盈利大漲。AI熱潮推動先進封裝技術及測試需求增加,相應設備公司表現(xiàn)更優(yōu)。多家國際行業(yè)研究機構一致認為,今明兩年全球半導體設備市場有望維持高景氣度,銷售額將連續(xù)刷新紀錄。

拉長時間看,業(yè)內人士表示,國內半導體設備公司想要競逐并站穩(wěn)全球舞臺,發(fā)力路徑有二:看齊全球最大的平臺型設備公司應用材料,或看齊全球光刻機霸主阿斯麥。

業(yè)績整體向好

近年來,晶圓廠、存儲器廠、封測廠擴產動作頻頻,疊加相關政策及貿易環(huán)境變化,國內半導體設備行業(yè)提速發(fā)展。映射到個體層面,截至4月13日,率先披露2025年年報的近10家A股半導體設備公司營收均保持增長。

從細分市場看,增速有快慢之分?!疤貏e是隨著先進封裝、AI算力芯片等的發(fā)展,相關芯片測試的復雜度在攀升,芯片測試總耗時大幅提高,對高端測試資源的需求在快速增加;與此同時,相關芯片的測試在溫度控制、熱管理效率及動態(tài)適配能力等方面,對半導體測試分選設備提出了更高的要求。”近日,主業(yè)為集成電路測試分選機的研發(fā)、生產及銷售的金海通表示。

業(yè)績足以佐證。2025年,金海通實現(xiàn)營業(yè)收入6.98億元,同比增長71.68%;歸母凈利潤為1.77億元,同比增長124.93%。

2025年,聯(lián)動科技實現(xiàn)營業(yè)收入3.54億元,同比增長13.84%;歸母凈利潤為0.34億元,同比增長65.25%。其增長邏輯在于“洞察客戶潛在需求,精準把握下游AI領域的戰(zhàn)略機遇,在SoC測試的高端領域實現(xiàn)了突破”。

與之相比,處在前道半導體工藝設備環(huán)節(jié)(前道工藝聚焦芯片制造,后道工藝聚焦芯片封裝與測試),并以清洗設備見長的盛美上海略有遜色。2025年,公司實現(xiàn)營業(yè)收入67.86億元,同比增長20.80%,而2024年的增速為44.48%。

再看處于前道環(huán)節(jié)并擅長刻蝕技術的中微公司。2025年,公司營業(yè)收入達到123.85億元,同比增長36.62%,而2024年的增速為44.73%。其中,刻蝕設備銷售約98.32億元,同比增長35.12%,而2024年的增速為54.72%。

需求因子有變

拉回需求側看,短短數年,變化尤為明顯。

近日,國際半導體產業(yè)協(xié)會(SEMI)負責人表示:“2025年全球創(chuàng)紀錄的半導體設備銷售額達到1351億美元(同比增長15%),凸顯了隨著人工智能加速對前沿邏輯、先進內存和高帶寬架構需求的推動,行業(yè)建設的規(guī)模和緊迫性?!?/p>

遙想三四年前,全球半導體設備市場的增長因子主要源自臺積電、英特爾、三星、中芯國際、英飛凌、意法半導體為主的芯片制造企業(yè)的擴產潮。

然而,此一時彼一時。SEMI近日預測,全球半導體設備銷售額將在2026年和2027年繼續(xù)增長,分別達到1450億美元和1560億美元,連續(xù)刷新歷史紀錄。其增長的核心驅動力主要在于:一是臺積電、三星、英特爾在2nm(納米)及以下制程節(jié)點的資本開支競賽;二是三星、SK海力士、美光科技均計劃在2026年大幅擴產HBM(高帶寬內存)產線;三是先進封裝技術的產能擴張。

賣方分析師普遍認為,臺積電用于生產AI芯片的3納米及以下制程,以及其先進封裝技術的需求仍超出其現(xiàn)有產能。臺積電此前預計,公司2026年資本支出將擴大至520億美元至560億美元。

順勢而為是首選?!半S著國內先進制程的擴產,先進封裝市場將快速增長,對先進封裝設備需求增加?!敝形⒐颈硎?,公司高度重視先進封裝類產品的研發(fā),且公司在先進封裝領域的設備覆蓋度將做到70%以上。

聯(lián)動科技表示,今年公司將著力提升測試系統(tǒng)的性能和效率,強化第三代半導體、AI芯片等戰(zhàn)略新興市場的技術布局與產品推廣,加速數?;旌闲盘柤呻娐?、SoC類大規(guī)模數字電路的研發(fā)與技術迭代升級進程。

多維破局在望

需求變化莫測,唯有提升自我競爭力。

于國內半導體設備公司而言,參照全球頭部企業(yè)發(fā)展經驗及歷程,路徑清晰明了——要么走平臺型路線,要么走專精特新路線。而無論是哪條路線,從“活下去”向“活得好”邁進是共同努力方向。

北方華創(chuàng)是國內平臺型設備公司代表。在半導體裝備業(yè)務板塊,公司的主要產品包括刻蝕、薄膜沉積、熱處理、濕法、離子注入、涂膠顯影、鍵合等核心工藝裝備,廣泛應用于集成電路、功率半導體、三維集成和先進封裝、化合物半導體、新型顯示等制造領域。

同時,北方華創(chuàng)還深耕高壓、高溫、高真空技術,主要產品包括晶體生長設備、真空熱處理設備、氣氛保護熱處理設備、連續(xù)式熱處理設備、等離子增強化學氣相沉積設備等,為新材料、新工藝、新能源等綠色制造提供技術支持。

中微公司的平臺化布局進展亦為順利。目前,公司產品組合包含超高深寬比CCP刻蝕、ICP碳掩膜刻蝕、ON疊層的沉積設備、硬掩膜的沉積設備、高深寬比縱向填充和橫向填充等核心工藝設備。

當然,隱形冠軍必不可少。比如,先導基電旗下凱世通2025年實現(xiàn)10多臺12英寸離子注入機設備交付,覆蓋低能大束流、超低溫等多類機型。光刻機被譽為半導體工業(yè)皇冠上的明珠,離子注入機、刻蝕機的分量緊隨其后。

值得一提的是,《國務院關于產業(yè)鏈供應鏈安全的規(guī)定》提出,國家引導產業(yè)鏈供應鏈合理有序布局,推進產業(yè)鏈供應鏈數字化、智能化,提升產業(yè)鏈供應鏈安全可控水平,促進產業(yè)鏈供應鏈高質量發(fā)展。

(責任編輯:王婉瑩)